JMAR公司获得X射线掩模和纳米光刻计划最新拨款 | ||||||||
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http://jczs.sina.com.cn 2006年09月07日 08:20 电子工业科技信息中心 | ||||||||
[美国《军事与航空航天电子学》2006年8月8日报道] 近日,JMAR技术公司获得美海军空中系统司令部(NAVAIR)价值310万美元的拨款。这是针对该公司当前价值1750万美元合同的最新拨款,以便继续进行100纳米以下x射线掩模和下一代纳米光刻技术的研究。 按照该合同,JMAR技术公司将利用其专利技术——X射线分档器和点光源技术开发X射线掩模,以便优先服务于军事和空间应用,它有16兆字节容量和高密度的50~35纳米高速
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